红外金平面反射炉该系列应用广泛，从碳纳米管生产系统到产线生系统；平面金反射炉可用于2~12英寸圆晶的退火炉和产品的烘干炉；

RTP快速退火炉已经成为半导体、铁电体以及镀膜行业的重要退火技术。但是目前，只有大型的、昂贵的生产设备才能完成快速热处理，这大大降低了研发工作的效率（尤其是小的样品）。为了满足市场的需求，ADVANCE RIKO研发出MILA-5000系列的小型快速退火炉。此系列的设备包含红外金面反射炉和高精度的温度控制器。根据需求选配相应的泵和气体接口，MILA能提供与大型RTP设备相同的热处理性能。

高温快速热退火炉HT-RTA59HD高温快速退火系统可以在SiC等高熔点的材料快速加热到1800℃。